A tantárgyleírás hatályossága
| Subject name (Hungarian, English) |
Mikroelektronika
Microelectronics
|
||||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Subject code | BMEVIEEA077 | ||||||||||||
| Subject type | — | ||||||||||||
| Training Level | — | ||||||||||||
| Course types and hours (weekly/semester) |
|
||||||||||||
| Assessment type | vizsga | ||||||||||||
| Credits | 5 | ||||||||||||
| Subject coordinator |
DR. Bognár György
position: egyetemi docens
contact:
bognar.gyorgy@vik.bme.hu
|
||||||||||||
| Responsible department |
Elektronikus Eszközök Tanszéke
|
||||||||||||
| Faculty | Villamosmérnöki és Informatikai Kar | ||||||||||||
| Subject website | — | ||||||||||||
| Primary curriculum type | — | ||||||||||||
| Direct prerequisites – Strong prerequisite | none | ||||||||||||
| Direct prerequisites – Weak prerequisite | none | ||||||||||||
| Direct prerequisites – Parallel prerequisite | none | ||||||||||||
| Direct prerequisites – Milestone prerequisite | none | ||||||||||||
| Direct prerequisites – Exclusion | none |
Objectives
1. hét: A monolit IC előállítás fő vonásai az egykristály előállításától a tokozott eszköz minősítéséig. A technológiai műveletek és fizikai alapjaik: egykristály növesztés, epitaxiális és egyéb rétegek növesztése és leválasztása. 4 óra gyakorlat: Si alapanyag minősítése.
2. hét: Diffúzió szilárdtestekben.
hét: Ionimplantáció, kontaktusok kialakítása, hőkezelések, a technológiai
lépések kölcsönhatásai. 4 óra gyakorlat:
Si oxidációja, fotoreziszt technika szemléltetése.
3. hét: A lokális
oxidáció szerepe. A szabványos bipoláris, az önbeállító NMOS, a CMOS és a
BiCMOS technológiákkal előállítható szerkezetek jellegzetességei. 4 óra gyakorlat: diffúzió, pn átmenet
minősítése.
4 hét: Fejlődési
trendek (szelet méret, lapka méret, bonyolultság), fizikai korlátok. A lapka és
a környezet kapcsolata: szerelés, tokozás. 4
óra gyakorlat: gate oxidnövesztés, C-V mérések, határfelületi állapotsűrűség
kiszámítása.
5. hét: A
technológia minősítésére alkalmas eszközök: preferenciális maratás
kristályhibák vizsgálatára, infravörös spektroszkópia, ellipszometria. 4 óra gyakorlat: fém réteg gőzölés,
vezetékhálózat kialakítása.
6. hét: C-V
módszerek, mélynívó spektroszkópia, roncsolásos és roncsolásmentes
adalékkoncentráció mérési módszerek, rétegvastagság és felületi morfológia
feltérképezése. 4 óra gyakorlat:
hőkezelés, karakterisztikák megmérése.
7. hét: élettartam
szelettérképek felvétele, technológiai vizsgálóábrák és áramkörök. 4 óra gyakorlat: eszközparaméterek
meghatározása a felvett karakterisztikákból, összevetés a számítással
meghatározott karakterisztikával.
8. hét: A méretcsökkentés fizikai és technológiai korlátai.
9. hét: A szubmikronos kivitelű MOSFET (különleges vezérlőelektróda, csatorna és nyelő szerkezetek, kvantum jelenségek).
10. hét: Az IC-k vezetékezésének kérdései. A sokrétegű összeköttetések.
11. hét: A kis és nagy dielektromos állandójú szigetelők fontossága.
12. hét: A szimuláció szintjei: technológiai-, eszköz (fizikai)-, áramkör-, és rendszer szimuláció.
13. hét: A maximális elemsűrűség elérése céljából alkalmazott különleges elem-struktúrák és előállításuk.
14. hét: Az IC-k termikus problémái. A hőelvezetés, mint az integrációt korlátozó tényező. Tokozás, hőelvezetés igen nagy disszipáció esetén.
Learning outcomes
Ez a tantárgy a KKK rendeletben meghatározott, következő kompetenciák fejlesztését szolgálja:
Knowledge
No learning outcomes recorded.
Skills
No learning outcomes recorded.
Attitudes
No learning outcomes recorded.
Autonomy and responsibility
No learning outcomes recorded.
Oktatási módszertan
Tanulástámogató anyagok
Not provided.
Recommended preliminary knowledge for completing the subject
General rules
Assessment methods
In-term assessments
No detailed assessments provided.
Weight of in-term assessments
No weights provided.
Exam-period assessments
No detailed assessments provided.
Weight of exam elements
No weights provided.
Grade calculation
No grade thresholds provided.
Attendance requirements
No attendance requirements provided.
Rules for retake and resubmission
Not provided.
Short description
Not provided.
Detailed description
Not provided.
Recommended courses
Workload to complete the subject
No workload breakdown provided.
Validity of subject requirements
Curriculum placement
No curriculum placements recorded for this subject version.